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专利名称：一种高激光损伤阈值ZrO薄膜的制备方法专利类型：发明专利
发明人：沈军,杨帆,孙骐,王珊,张勤远,吴广明,倪星元,周斌申请号：CN200310109532.0申请日：20031218公开号：CN1553220A公开日：20041208
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种具有高激光损伤阈值的二氧化锆(ZrO)薄膜的制备方法，在基底层上用化学镀膜法制备单层ZrO薄膜。首先制备氧氯化锆(ZrOCl·8HO)的水溶液，并在密闭容器中对该水溶液进行水热合成，制得ZrO水溶胶；再用乙二醇甲醚替换ZrO水溶胶中的水，形成ZrO醇溶胶；并在该醇溶胶中添加适量聚乙烯吡咯烷酮(PVP)，充分搅拌形成均匀稳定的ZrO－PVP溶胶。本发明制备过程简单方便，所制单层ZrO－PVP薄膜膜层表面平整度高，膜层的抗激光损伤阈值达23J/cm(10nm，1ns)；ZrO－PVP溶胶性能稳定，可长期存放使用。
申请人：同济大学
地址：200092 上海市四平路1239号
国籍：CN
代理机构：上海正旦专利代理有限公司
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