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专利名称：抛光装置专利类型：发明专利发明人：安藤敏夫申请号：CN851022申请日：19850415公开号：CN851022A公开日：19870121
摘要：在一台抛光装置中，一条抛光带紧压住要抛光的工件的工作位置。这种抛光装置包括：从上述抛光带的一部份，清洗液对着运行的抛光带，通过液体的压力除去附在抛光带的磨粒粉末；一个吸取清洗液的工具放置在与清洗液喷射工具相反的位置以使它适合吸取和回收使用过的清洗液，该清洗液是从液体喷射工具喷射到抛光带上。
申请人：株式会社名南制作所
地址：日本爱知县大府市梶田町三丁目130番地
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利代理部
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