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专利名称：二氧化氯气体产生装置专利类型：发明专利
发明人：阪田总一郎,樋口裕幸,井上正宪,楠田昌弘,小野元嗣申请号：CN201310455356.X申请日：20130930公开号：CN104512866A公开日：20150415
摘要：本发明提供一种二氧化氯气体产生装置，其能够避免伴随二氧化氯气体的生成而产生的雾和固体粒子造成的污染。一种二氧化氯气体产生装置（1），向容器（13）供给片状亚氯酸钠（a）和酸性液体（b），通过两者的化学反应来产生二氧化氯气体（c），所述二氧化氯气体产生装置（1）被遮蔽的气体产生室（11）内具有容器（13），容器（13）被分隔成多个容器部分（20），并且各容器部分（20）通过开口部（22）彼此连通，该开口部（22）具有片状亚氯酸钠（a）不能通过的大小。
申请人：高砂热学工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中国专利代理()有限公司
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