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专利名称：一种低温釉下裂纹的生产方法专利类型：发明专利发明人：成伟
申请号：CN200710035863.2申请日：20070930公开号：CN1011684A公开日：20080430
摘要：一种低温釉下裂纹的生产方法，首先按传统工艺制作坯体，进行坯体素烧，然后在坯体上施涂中间层；所述中间层配方为硅石粉48～55％、长石粉25～32％、1185釉5～12％、高岭土8～15％；施涂方法是先将配好的中间层原料加水制成波美浓度为38～42度的混和液，再将坯体置于混和液中浸施3～4钞钟，使涂层厚度达到0.4～0.6毫米，接着在施涂干燥后的中间层上绘彩、装饰，将半成品入窑烤烧，最后在烤烧好的中间层上施涂透明釉，再入窑釉烧后得到成品。本发明克服了传统裂纹釉工艺不能生产低温陶瓷质餐、茶具、咖啡具的缺陷，生产的陶瓷制品表层釉面完整、不会被外部液体渗透污染，釉下有装饰效果显著的裂纹，铅含量小、可以顺利地进入欧美市场，具有巨大的经济和社会效益。
申请人：成伟
地址：417700 湖南省双峰县双丰县永丰镇永兴巷23号
国籍：CN
代理机构：湖南省娄底市兴娄专利事务所
代理人：朱成实
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