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专利名称：可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法专利类型：发明专利发明人：郭建,周伟峰,明星申请号：CN200910080573.9申请日：20090320公开号：CN101840150A公开日：20100922
摘要：本发明涉及一种可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法。其中，掩模版包括：基板，所述基板上形成有相互搭接的挡光材料层和压电陶瓷材料层，形成有所述挡光材料层和所述压电陶瓷材料层以外的基板区域为透光区域，且所述透光区域与所述压电陶瓷材料层相邻。本发明当掩模版制造完成后，由于工艺条件改变等原因需要调整掩模版图形尺寸时，可通过对压电陶瓷材料进行加压控制，从而对掩模版上的图形尺寸进行调整，而不需要重新制备新的掩模版，降低了生产制造的成本，并有利于缩短生产周期。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人：刘芳
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