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一种具有大磁电阻效应的GdN薄膜及制备方法[发明专利]

来源:华佗小知识
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种具有大磁电阻效应的GdN薄膜及制备方法专利类型:发明专利

发明人:米文博,段秀峰,白海力申请号:CN201310041075.X申请日:20130201公开号:CN103088293A公开日:20130508

摘要:本发明涉及一种具有大磁电阻效应的GdN薄膜及制备方法。开发了反应磁控溅射法制备多晶GdN薄膜,该多晶薄膜生长在MgO(100)基底上,利用晶格的相关性来降低晶粒边界密度,薄膜结构为以Ag作为电极和AlN作为保护层的GdN薄膜;该薄膜具有大磁电阻效应,在5K温度和50kOe磁场下,磁电阻为-86%。作为磁场控制的开关,磁场敏感器等,具有靶材选择简单和靶材使用率较高等优点。

申请人:天津大学

地址:300072 天津市南开区卫津路92号天津大学

国籍:CN

代理机构:天津市北洋有限责任专利代理事务所

代理人:王丽

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