（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201310711879.6 （22）申请日 2013.12.20
（71）申请人 东京毅力科创株式会社
地址 日本东京都
（10）申请公布号 CN103882406A
（43）申请公布日 2014.06.25
（72）发明人 池川宽晃;上西雅彦;高桥宏辅;小堆正人;小川淳 （74）专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 刘新宇
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
成膜方法
（57）摘要
本发明提供一种使用成膜装置的成膜方
法。该成膜装置包括第1气体供给部、以及第2气体供给部以及能够载置多个基板的旋转台，其中，该成膜方法包括：第1工序，自第1气体供给部和第2气体供给部供给氧化气体并使旋转台旋转；第2工序，自第1气体供给部供给含有第1元素的第1反应气体并自第2气体供给部供给氧化气体，使旋转台旋转，从而在基板上形成含有第1元素的第1氧化膜；第3工序，自第1气
体供给部和第2气体供给部供给氧化气体并使旋转台旋转；以及第4工序，自第1气体供给部供给含有第2元素的第2反应气体、自第2气体供给部供给氧化气体并使旋转台旋转，从而在基板上形成含有第2元素的第2氧化膜。
法律状态
法律状态公告日
2014-06-25 2015-06-17 2017-03-22
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
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公开
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权利要求说明书
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说明书
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