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专利名称：一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置专利类型：实用新型专利发明人：皮超杰,徐国龙,夏震申请号：CN201720267999.5申请日：20170320公开号：CN206512273U公开日：20170922
摘要：本实用新型公开了一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置，包括CVD反应室，所述CVD反应室的内壁上设置有磁感应线圈，所述CVD反应室的底部设置有反应台，所述反应台的顶部设置有升降台，所述升降台的顶部设置有基体。本实用新型通过设置在CVD反应室上的真空泵和压力表，可对CVD反应室内的压力进行控制，使CVD反应室的压力保持在0.13Pa左右，在负偏压作用下沉积到基体上形成金刚石薄膜，在低压下生成的金刚石薄膜，厚度均匀、生产效率高、沉积速率高、稳定性好、可调性和重复性好，保证金刚石薄膜的质量，通过设置的均速喷气喷头，可将射频等离子发生器内的等离子均速喷在基体上，有效提高基体上形成的金刚石薄膜厚度均匀性和稳定性。
申请人：郑州嘉晨化工科技有限公司
地址：451191 河南省郑州市新郑市龙湖镇中原工学院大学科技园10号楼
国籍：CN
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