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专利名称：具有多个溅射源的反应溅射专利类型：发明专利
发明人：M·杜布斯,K·鲁姆,H·罗尔曼申请号：CN201080019282.X申请日：20100423公开号：CN102439196A公开日：20120502
摘要：用于通过反应溅射来涂覆衬底(14)的设备(1)包括轴(8)；关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11，12)，以及连接到目标(11，12)的电源，其中目标能交替地作为阴极和阳极工作。该方法为制造涂覆的衬底(14)的方法，其通过在包括轴(8)的设备(1)中进行反应溅射来涂覆衬底(14)。该方法包括：a)提供待涂覆的衬底(14)；b)提供关于所述轴(8)成对称布置的至少两个目标(11，12)；c)在涂覆期间交替地操作所述目标(11，12)作为阴极和阳极。优选地，在溅射期间旋转目标(11，12)和/或目标被同心地布置，且最内部的圆形目标被至少一个环形外部目标包围。
申请人：OC欧瑞康巴尔斯公司
地址：列支敦士登巴尔策斯
国籍：LI
代理机构：中国专利代理()有限公司
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