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离子束增强沉积制备P-型氧化锌薄膜的方法[发明专利]

来源:华佗小知识
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:离子束增强沉积制备P-型氧化锌薄膜的方法专利类型:发明专利发明人:袁宁一,李金华申请号:CN200510094611.8申请日:20050929公开号:CN1752269A公开日:20060329

摘要:本发明涉及一种新的ZnO薄膜实用制备技术,其将高纯度ZnO粉体,或原子比为1-5%的Al、In等氧化物均匀掺入ZnO粉体,用等静压压制成型,再烧结成溅射靶,并用纯N或Ar∶N为1∶3~1∶10的混合高纯气体产生的混合离子束对沉积膜轰击,垂直注入到溅射沉积膜上,利用样品台的公转和样品片自转实现均匀注入,保证薄膜在后续的结晶热处理后得到均匀的、高取向ZnO多晶结构。本技术的ZnO薄膜制备沉积不受衬底材料的制约,可以在硅、氧化硅、玻璃和氮化硅多片衬底上同时沉积制备均匀、致密、与衬底粘附良好、电阻率低于1.0Ωcm,在可见光区域透射率大于80%p型氧化锌薄膜,满足工业化生产要求;且成膜温度较低,与半导体工艺兼容,没有废物排放。

申请人:江苏工业学院

地址:213016 江苏省常州市白云路

国籍:CN

代理机构:南京知识律师事务所

代理人:汪旭东

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