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一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法[发明专利]

来源:华佗小知识
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法专利类型:发明专利

发明人:陈善亮,高凤梅,王霖,郑金桔,杨为佑申请号:CN201510511223.9申请日:20150819公开号:CN105161554A公开日:20151216

摘要:本发明涉及一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法,属于纳米材料技术领域。所述制备方法包括如下步骤:有机前驱体热交联固化和粉碎,得有机前驱体粉末;将有机前驱体粉末和FePO·HO粉末混合均匀后置于石墨坩埚底部,将碳布衬底放置在坩埚顶部;将石墨坩埚及碳布衬底一起置于气氛烧结炉中,先以28-32℃/min的速率从室温升温至1300-1400℃,再以20-25℃/min的速率升温至1400-1500℃进行热解;热解后气氛烧结炉以12-75℃/min的速率先冷却至1080-1150℃,再随炉冷却至室温,即可得到以碳布为衬底的P掺杂SiC纳米颗粒薄膜。本发明制备方法简单可控,具有很好重复性,实现了在碳纤维布衬底上制备SiC纳米颗粒薄膜,实现了对SiC纳米颗粒薄膜的P掺杂,并实现了对P掺杂SiC纳米颗粒尺寸的有效。

申请人:宁波工程学院

地址:315016 浙江省宁波市海曙区翠柏路59号

国籍:CN

代理机构:宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙)

代理人:张向飞

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