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专利名称：模式优化装置专利类型：发明专利发明人：李进延,刘长波申请号：CN201611136515.X申请日：20161212公开号：CN1005978A公开日：20170215
摘要：本发明公开了一种模式优化装置，用于优化激光器输出激光的光束质量，该模式优化装置包括：模式单元，用于滤除激光系统中的高阶模；第一匹配光纤，用于将模式单元与激光系统前项模场匹配；以及，第二匹配光纤，用于将模式单元与激光系统后项模场匹配。本发明装置在不用改变光纤激光器系统中原有的结构设计和光纤组成情况下，通过专门设计的模式单元，即使基模与高阶模尽可能大的损耗区分，两种单元的结构都能使基模的损耗<0.1dB/m，高阶模的损耗>40dB/m，从而实现便捷良好的模式优化效果。
申请人：武汉长进激光技术有限公司
地址：430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号未来科技城海外人才大楼A座6层
国籍：CN
代理机构：武汉智盛唯佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：胡红林
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