专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种对准装置与对准方法、像质检测方法专利类型：发明专利发明人：韦学志
申请号：CN200710170540.4申请日：20071116公开号：CN101158818A公开日：20080409
摘要：本发明公开了一种光刻机中掩模与工件台对准的对准装置，一次对准至少四个标记，即可确定一个基本对准位置。与现有技术相比，对准标记所需进行的运动行程也进一步减小，这样进一步减少了对准所用的时间开销，提高了系统工作效率。同时，对准的信号处理方式多样，可以得到不同的对准精度，这样可以根据用户的需要，选择不同的对准信号处理策略，以兼顾对准精度和对准效率两个方面的更进一步的优化。并且可以实现对像质的检测。
申请人：上海微电子装备有限公司
地址：201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所
更多信息请下载全文后查看
