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专利名称：形成堆叠层的方法和堆叠层专利类型：发明专利
发明人：J-M·韦里亚克,M·邦瓦迪,S·夏洛申请号：CN201780085495.4申请日：20171130公开号：CN110249441A公开日：20190917
摘要：一种生产堆叠层的方法，其包括以下步骤：‑能够导电的第一层(2)，‑在第一层(2)上形成(102)感兴趣的层(3)，该感兴趣的层(3)包含至少一个自由体积，‑形成至少一个修复元件(7)，每个修复元件至少部分地填充称为感兴趣的自由体积的自由体积，该修复元件(7)包含至少一个绝缘层并且使与第一层(2)相对的位于所述至少一个自由体积之外的感兴趣的层(3)的上表面(31)自由，‑在感兴趣的层(3)上形成(104)能够导电的第二层(20)，所述第二层(20)覆盖修复元件(7)和自由表面(31)，形成修复元件(7)的步骤包括以下步骤：‑在感兴趣的层(3)上形成(111)缓冲层(4)，其至少部分地延伸到感兴趣的自由体积(30)中，‑用填充层(5)覆盖(112)位于感兴趣体积(30)中的缓冲层(4)的至少一部分，所述缓冲层(4)和填充层(5)由不同的材料制成。
申请人：原子能和辅助替代能源委员会,特里赛尔公司
地址：法国巴黎
国籍：FR
代理机构：永新专利商标代理有限公司
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