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专利名称：光催化自洁涂料及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：陆志军,甘立英,李春连,臧杰,陆建军申请号：CN201010137571.1申请日：20100326公开号：CN101845272A公开日：20100929
摘要：本发明公开了这样一种用于电力系统高压电器及器件表面的光催化自洁涂料及其制备方法。所说的光催化自洁涂料重量配比组成是：端羟基含氟聚硅氧烷20～40、小分子硅氧烷1～3、纳米二氧化硅2～6、十溴二苯乙醚4～6、氢氧化铝6～12、二氧化0.5～1.2、铁红1～3，上述各成分分别计量送入真空捏合机中混合，升温至100-160℃加热混炼1.5～3个小时，经真空脱低分子2～3小时、冷却后，经三辊研磨后再按量加入无水溶剂40～60稀释到所需粘度后，经过胶体磨乳化3～4遍，加入交联剂1～3和催化剂0.3～0.5，混合均匀后在惰性气体保护下过滤装在隔绝空气的容器中。
申请人：福建瑞森化工有限公司
地址：3400 福建省龙岩市漳平工业园区(和安小区)
国籍：CN
代理机构：厦门市首创君合专利事务所有限公司
代理人：李国兴
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