（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利说明书
（21）申请号 CN201180007086.5 （22）申请日 2011.03.30
（71）申请人 东京毅力科创株式会社
地址 日本东京都
（10）申请公布号 CN102725834B
（43）申请公布日 2015.04.01
（72）发明人 高槻浩一;山崎和良;野口秀幸;田村大辅;齐藤智博 （74）专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 龙淳
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置
（57）摘要
向等离子体氮化处理装置（100）的
处理容器（1）中，导入包括氮气和稀有气体的处理气体，处理气体的流量在换算成每1L所述处理容器的容积的处理气体的合计流量[mL/min（sccm）]时处于1.5（mL/min）/L以上13（mL/min）/L以下的范围内，在处理容器（1）内产生含氮等离子体，更换晶片W并连续进行氮化处理。氮气和稀有气体的体积流量比（氮气/稀有气体）优选为0.05以上0.8以下的范围内。 法律状态
法律状态公告日
2012-10-10 2012-12-05 2015-04-01
公开
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
法律状态
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权利要求说明书
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说明书
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